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ディスプレイ向けウェットプロセス装置

設計コンセプト

フラットパネルディスプレイ(Flat Panel Display:FPD)は、高精細化、薄型化、軽量化といった方向へ進化を続けており、PDP(プラズマディスプレイ)、TFT-LCD(薄膜トランジスタ液晶ディスプレイ)、TN/STN-LCD、有機EL、マイクロディスプレイなど、多様な技術が展開されています。TFT-LCD の生産技術は、半導体プロセス、化学材料応用、ならびに光電産業における精密製造技術を高度に融合したものであり、その製造工程は大きく TFT アレイプロセス(TFT Array Process)、液晶セルプロセス(LC Cell Process)、モジュール組立プロセス(Module Assembly Process) の三段階に分類されます。これら各工程は、高い連動性を有することが特徴です。当社は長年にわたり湿式プロセス装置分野に注力し、FPD 製造工程における中核設備の開発および供給を行ってまいりました。TFT-LCD および STN-LCD プロセス向けに、高品質かつ高信頼性のウェットプロセスソリューションを提供しています。主な対応工程は、洗浄、現像、エッチング、レジスト剥離 などの重要プロセスであり、お客様の要求仕様に応じたカスタマイズ設計を通じて、基板歩留まりの向上および製程安定性の確保に貢献しています。さらに、自動化、無人化を前提とした装置構成により、安定した量産運用と高い再現性を実現しています。現在では、国内外の多数の FPD 関連顧客への導入実績を有し、無人化対応設備としての技術高度化と継続的な進化を推進しています。

ディスプレイ製造用ウェットプロセス装置

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片面/両面 ロール・ツー・ロール プロセス装置

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枚葉式 小型ガラス基板 洗浄装置

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ガラス ロール・ツー・ロール プロセス装置

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ロール・ツー・ロール 薄膜(FILM)プロセス装置

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