顯影方案

卓越顯影的設備

此方案敍豐透過顯影液(TMAH.KOH.K2CO3)有效的去除光阻,來達成定義之圖形,並以不同的製程來選用最佳化的噴嘴或液刀,並以特殊的噴灑設計來達到最佳的均勻性,在此消泡.純水清洗.抽風流體力學及藥液防止外洩設計也是一個很重要的一個環節,能確保產出基板品質,使基板狀態能符合下個製程的需求條件。

產品的設計理念

• 適用於G2~G8.5尺寸基板使用
• 優越的顯影均勻性高達99.7%=3σ≦0.5 µm
• 均採用內外槽體安全性設計
• 卓越的設備95%稼動率以上,產品良率超越85%以上
• 確保下段製程的潔淨需求,可達到無MURA.無輪痕及無水痕
• 產速可依照客戶端的需求進行設計,專利擺動式噴灑.可調式產速設計及藥液監控系統,使客戶能在製程條件上有更優化的搭配

產品價值

• 選用的元件及板材均是世界一級大廠的料件,品質問題是敍豐一直以來的堅持,專業的團隊加入,可使客戶產生速度加快,有利於客戶產品在市場的競爭力
• 用料品質的穩定及安全設計下的考量,都是敍豐最主要的核心理念