显影方案

卓越显影的设备

此方案叙丰透过显影液(TMAH.KOH.K2CO3)有效的去除光阻,来达成定义之图形,并以不同的制程来选用优化的喷嘴或液刀,并以特殊的喷洒设计来达到最佳的均匀性,在此消泡.纯水清洗.抽风流体力学及药液防止外泄设计也是一个很重要的一个环节,能确保产出基板质量,使基板状态能符合下个制程的需求条件。

产品的设计理念

• 适用于G2~G8.5尺寸基板使用
• 优越的显影均匀性高达99.7%=3σ≦0.5 µm
• 均采用内外槽体安全性设计
• 卓越的设备95%稼动率以上,产品良率超越85%以上
• 确保下段制程的洁净需求,可达到无MURA.无轮痕及无水痕
• 产速可依照客户端的需求进行设计,专利摆动式喷洒.可调式产速设计及药液监控系统,使客户能在制程条件上有更优化的搭配

产品价值

• 选用的组件及板材均是世界一级大厂的料件,质量问题是叙丰一直以来的坚持,专业的团队加入,可使客户产生速度加快,有利于客户产品在市场的竞争力
• 用料质量的稳定及安全设计下的考虑,都是叙丰最主要的核心理念